PROCESS FOR CLEANING A FACILITY FOR SEPARATING SILICON COMPONENTS IN A BATH FOR HYDROCHLORIC PICKLING OF STEEL PRODUCTS; THE DEVICE FOR SAID PROCESS

摘要

PROCEDE DE NETTOYAGE D'UNE INSTALLATION DE SEPARATION DES COMPOSES DE SILICIUM CONTENUS DANS UN BAIN DE DECAPAGE CHLORHYDRIQUE DE PRODUITS EN ACIER ET DISPOSITIF POUR SA MISE EN OEUVRE L'invention concerne un procédé de nettoyage d'une installation de séparation des composés de silicium contenus dans un bain de décapage chlorhydrique de produits en acier, dans laquelle le bain usé est recyclé après concentration par élimination d'eau, suivie d'un traitement en vue de la récupération des composés de fer, une opération de séparation solideliquide telle qu'une microfiltration tangentielle étant effectuée sur le bain concentré afin d'en séparer les composés du silicium sous forme non-ionique et ainsi les concentrer dans une fraction du bain, et au moins la majeure partie de la fraction de ce bain contenant ces composés de silicium concentrés étant recirculée, procédé selon lequel périodiquement on effectue le nettoyage de ladite installation en y faisant circuler une solution d'acide fluorhydrique, caractérisé en ce que préalablement à cette opération de nettoyage, on fait circuler dans ladite installation une solution d'un hydroxyde de métal alcalin. L'invention a également pour objet un dispositif pour la mise en oeuvre de ce procédé.