| 发明名称 |
TAPER ETCHING METHOD FOR SILICON NITRIDE FILM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH05299392(A) |
申请公布日期 |
1993.11.12 |
| 申请号 |
JP19910021236 |
申请日期 |
1991.02.15 |
| 申请人 |
MITSUBISHI ELECTRIC CORP |
发明人 |
SAKAMOTO HIROKAZU;HAYAMA MASAHIRO |
| 分类号 |
H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/302 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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