发明名称 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
摘要 본 발명은 고온 고압 유체를 준비하는 용기의 급격한 압력 변동을 억제하여, 간소한 방법으로 액체 원료를 이송할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 기판 처리 장치는, 고온 고압 유체에 의해 기판(W)을 건조하기 위한 처리 용기(1)와, 액체 상태의 원료를 수용하는 원료 수용부(3)와, 고온 고압 유체를 처리 용기(1)에 공급하기 위한 공급부(2)를 구비하고, 이 공급부(2)는, 상기 처리 용기(1) 및 원료 수용부(3)에 접속되며, 밀폐 가능한 외부 용기(21)와, 이 외부 용기(21)를 가열하기 위한 가열 기구(25)와, 외부 용기(21) 내에 설치되고, 원료 수용부(3)로부터 원료를 받아들여, 가열 기구(25)에 의해 가열되는 외부 용기(21)의 피가열부를 향해 이 원료를 낙하시키기 위한 개공부(221)가 형성된 내부 용기(22)를 구비하고, 내부 용기(22)에 원료를 수용한 후, 이 원료를 상기 피가열부에 접촉시켜 얻어진 고온 고압 유체를 처리 용기(1)에 공급한다.
申请公布号 KR101682740(B1) 申请公布日期 2016.12.05
申请号 KR20120104503 申请日期 2012.09.20
申请人 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 发明人 나카시마 미키오
分类号 H01L21/02;H01L21/67 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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