| 主权项 |
1. 一种X光检验系统,包括:一平行的X光源,以该X光源发射之一X光束照射并穿过一被检验物体,该X光以一扇状形式位于垂直该X光之散射平面的平面中;侦测装置,可以在经过物体在不同角度之连续散射的X光强度中监别,以便依据经过每一该等角度之散射X光的强度而产生一输出讯号;准直装置,设置于该侦测装置与该物体之间,包括复数个X光衰减物质的薄片,每一薄片沿着中心与可以侦测到散射的体积元的中心一致的不同圆形的半径延伸,每一圆形及相对应的体积元皆位于与扇形光束之平面垂直的平面上,该准直装置可以只经过从一受限的体积元深度及从一光束的受限弧度在不同角度连续散射的X光;以及分析装置,可操作地连接至该侦测装置,用以处理该输出讯号以便决定经过一个或更多预定角度连续散射的X光,其中,该准直装置及该侦测装置可以侦测跨越扇形光束宽度的X光,且其中,于中心位于光束中央的扇形光束之小弧度上,准直装置之每一薄片,取代横卧于实质上完全垂直X光束被散射的平面,系经过一实质上不大于25度的角度,相对一从二维的散射体积元延伸至该小弧度之中心点的轴旋转出该平面之外。2. 根据申请专利范围第1项之X光检验系统,其中该薄片之旋转角度是从5度到25度。3. 根据申请专利范围第2项之X光检验系统,其中该旋转角度大约为15度。4. 根据申请专利范围第1项之X光检验系统,其中每一薄片的旋转角度沿着该轴以从该体积元中心的距离变化。5. 根据申请专利范围第4项之X光检验系统,其中每一薄片上之旋转角度线性地正比于从该散射体积元中心之距离。6. 一种X光检验系统,包括:一平行的X光源,被设置为以该X光源发射之一X光束照射并穿过一被检验物体,该X光系以一扇状形式位于垂直该X光之散射平面的平面中;侦测装置,可以在经过物体在不同角度之连续散射的X光强度中监别,以便依据经过每一该等角度之散射X光的强度而产生一输出讯号;准直装置,设置于该侦测装置与该物体之间,包括复数个X光衰减物质的薄片,每一薄片沿着中心与可以侦测到散射的体积元的中心一致的不同圆形的半径延伸,每一圆形及相应的体积元皆位于与扇形光束之平面垂直的平面上,该准直装置可以只经过从一受限的体积元深度及从一光束的受限弧度在不同角度连续散射的X光;衰减装置,在散射曲线的接收期间,准直装置的薄片可以相对对应的二维散射体积元中心,经过一薄片角度空间阶级的角度旋转,该中心位于垂直扇形光束的平面但与二维散射体积元共平面;以及分析装置,可操作地连接至该侦测装置,用以处理该输出讯号以便决定经过一个或更多预定角度连续散射的X光,其中,该准直装置及该侦测装置可以侦测跨越扇形光束宽度的X光。7. 根据申请专利范围第6项之X光检验系统,其中该校正装置提供一旋转动作周期,该周期不大于散射曲线接收的周期。8. 根据申请专利范围第1.2.3.5.6或7项之X光检验系统,其中该准直装置之复数个薄片系以相同角度被分离。9. 根据申请专利范围第1.2.3.5.6或7项之X光检验系统,其中该复数薄片被不同量分开,以便定义一体积元深度,连续散射X光之不同角度的体积元深度为常数。10. 根据申请专利范围第1.2.3.4.5.6或7项之X光检验系统,其中每一薄片实质上完全横卧于垂直扇形光束平面之平面上。11. 根据申请专利范围第8项之X光检验系统,其中每一薄片实质上完全横卧于垂直扇形光束平面之平面上。12. 根据申请专利范围第9项之X光检验系统,其中每一薄片实质上完全横卧于垂直扇形光束平面之平面上。13. 根据申请专利范围第1.2.3.5.6或7项之X光检验系统,其中该准直装置相对该被检验物体在末散射的X光方向为可移动,以便改变经过物体深度的体积元深度。14. 根据申请专利范围第11项之X光检验系统,其中该准直装置相对该被检验物体在未散射的X光方向为可移动,以便改变经过物体深度的体积元深度。15. 根据申请专利范围第12项之X光检验系统,其中该准直装置相对该被检验物体在未散射的X光方向为可移动,以便改变经过物体深度的体积元深度。16. 根据申请专利范围第13项之X光检验系统,其中该侦测装置可以与该准直装置一起移动。17. 根据申请专利范围第1.2.3.5.6或7项之X光检验系统,其中该侦测装置可以同时侦测经过一角度范围的散射X光,以便产生一角度分散的X光光谱。18. 根据申请专利范围第16项之X光检验系统,其中该侦测装置可以同时侦测经过一角度范围的散射X光,以便产生一角度分散的X光光谱。19. 根据申请专利范围第1.2.3.5.6或7项之X光检验系统,其中该X光源包括一复色X光产生器及一辅助的平衡滤波系统。20. 根据申请专利范围第14项之X光检验系统,其中该X光源包括一复色X光产生器及一辅助的平衡滤波系统。21. 根据申请专利范围第15项之X光检验系统,其中该X光源包括一复色X光产生器及一辅助的平衡滤波系统。22. 根据申请专利范围第16项之X光检验系统,其中该X光源包括一复色X光产生器及一辅助的平衡滤波系统。23. 根据申请专利范围第9项之X光检验系统,其中该侦测装置包括一侦测器,实质上只用于感测平衡滤波系统之带通区域中的X光能量。图示简单说明:图1系一种X光检验系统由上方观看之一部份的截面图;图2A系表示扇状光束之相同系统之一侧视图;图2B系相同系统之一侧面图,但其中的X光束为一破裂扇状光束;图3系表示第一实施例之分析装置之图式;图4系表示第二实施例之分析装置之图式;图5表示(A)一种典型的影像及(B)从该影像产生之散射曲线之降低的讯息;图6表示使用不同爆炸物所得到之散射曲线;图7表示与前述不同之准直实施例,从X光源方向观看,并被设置于横卧在垂直扇形光束之平面上;以及 |
