| 摘要 |
본 발명은 폴리싱 층을 포함하는 폴리싱 패드에 관한 것이며, 여기서 폴리싱 층은 작업 표면 및 작업 표면의 반대편인 제2 표면을 포함한다. 작업 표면은 복수의 정밀하게 형상화된 기공들, 복수의 정밀하게 형상화된 돌기들, 및 랜드 영역을 포함한다. 본 발명은 또한 전술한 폴리싱 패드와 폴리싱 용액을 포함하는 폴리싱 시스템에 관한 것이다. 본 발명은 기재의 폴리싱 방법에 관한 것으로, 이 방법은 이전의 폴리싱 패드들 중 임의의 것에 따른 폴리싱 패드를 제공하는 단계; 기재를 제공하는 단계; 폴리싱 패드의 작업 표면을 기재 표면과 접촉시키는 단계; 폴리싱 패드의 작업 표면과 기재 표면 사이의 접촉을 유지하면서 폴리싱 패드와 기재를 서로에 대해 이동시키는 단계를 포함하고, 폴리싱 용액의 존재 하에 폴리싱이 수행된다. |
