| 主权项 |
1.一种空间成像测定装置,其利用由一光源发出的且通过该光罩的光线所形成的一空间成像来检视一形成预定图案的光罩上的缺陷,该装置包含:一光学透射装置,供将该光源发出的光线照在该光罩并且形成通过该光罩的透射光;一光学反射装置,供将该光源发出的光线照在形成该等图案的该光罩表面并且形成从形成该等图案的该表面反射的反射光;以及一空间成像装置,供藉由转换所选的该透射光及该反射光任何一个成为一电讯号以形成一空间影像。2.如申请专利范围第1项之装置,其中该光学反射装置包含:一分光镜,供将该光源发出的该光线分成该透射光进行的一透射光径及该反射光进行的一反射光径;以及一反射镜,供切换该光径使沿该反射光径进行的该光线照到形成该等图案的该光罩表面。3.如申请专利范围第1项之装置,其中供选择性遮断或通过前进至透射光径及反射光径的光线的开/关装置各被安装在透射光径及反射光径上。4.如申请专利范围第1项之装置,其中该光源是一深紫外线(DUV)或I-线的光源。5.一种空间成像测定装置,其利用从第一及第二光源发出的且通过该光罩的光线所形成的一空间成像来检视一形成预定图案的光罩上的缺陷,该装置包含:光学透射装置,供将该第一光源发出的光线照在该光罩并且形成通过该光罩的透射光;光学反射装置,供将该第二光源发出的光线照在形成该等图案的该光罩表面并且形成从形成该等图案的该表面反射的反射光;以及一空间成像装置,供藉由转换所选的该透射光及该反射光任何一个成为一电讯号以形成一空间影像。6.如申请专利范围第5项之装置,其中该光学反射装置包含切换该光径以使该第二光源发出的该光线照在形成该等图案的该光罩表面的一反射镜。7.如申请专利范围第6项之装置,其中供选择性遮断或通过从该第二光源传来的光线被安装在该第二光源及该反射镜间。8.如申请专利范围第7项之装置,其中供控制一数値孔径及一同调性的一光圈更安装在该第二光源及该反射镜间。9.如申请专利范围第5项之装置,其中各个第一及第二光源是一深紫外线或I-线的光源。图式简单说明:第一图系一概略图,显示测定一空间成像之传统装置的配置。第二图系一概略图,显示依据本发明的一实施例测定一空间成像之装置的配置。第三图系一概略图,显示依据本发明的另一实施例测定一空间成像之装置的配置。 |
