发明名称 | 超高密度碟片刻片装置 | ||
摘要 | 本实用新型涉及一种超高密度碟片刻片装置,其包含有:一光源产生器,用以产生一具特定波长的光源;一旋转平台,用以承载并驱动一刻片基板旋转;一刻片加工装置,包含有一光源导引件以及一驱动组件;该驱动组件,是与该导引件连接,一往复机构,是与该刻片加工装置连接,藉此,经由该导引件所导引的光源,可直接照射曝光于该基板表面,并藉由该往复机构及该旋转平台来控制该基板上该曝光点的位置。 | ||
申请公布号 | CN2354211Y | 申请公布日期 | 1999.12.15 |
申请号 | CN99200938.3 | 申请日期 | 1999.01.25 |
申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 张云辉;罗士哲;王洪儒;潘家添;杨景棠;林锡甫 |
分类号 | G11B7/26 | 主分类号 | G11B7/26 |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 刘文意 |
主权项 | 1.一种超高密度碟片刻片装置,其特征在于包含有:一光源产生器,以产生一具特定波长的光源;一旋转平台,以承载并驱动一刻片基板旋转;一刻片加工装置,它包含有一光源导引件以及一驱动组件;其中该光源导引件具有一进口端及一出口端,以引导该光源自该进口端进入该导引件并自该出口端射出;而该驱动组件,是与该导引件连接,以使该导引件的出口端与该刻片基板表面的距离,维持在小于该光源波长的范围内;一往复机构,它与该刻片加工装置连接,它可驱动该导引件的出口端沿一直线方向往复位移;经由该导引件所导引的光源,可直接照射曝光于该基板表面,并由该往复机构及该旋转平台以控制该基板上该曝光点的位置。 | ||
地址 | 台湾省新竹县竹东镇中兴路四段195号 |