缓冲式曝光吸盘

摘要

本创作为一种缓冲式曝光吸盘，包括一基座，其表面设一具有适当宽度及深度之环形凹槽，使该凹槽内侧形成一圆形凸块，该圆形凸块内部则为中空而形成一室，该圆形凸块之顶面设有多个小孔与该室相通，该室以一第一通路连接至一第一管接头，而该凹槽则以一第二通路连接至一第二管接头，此二管接头再以管路连接至真空泵。该圆形凸块上设一大小约略相等之弹性材料，其上并设有多个孔洞与该圆形凸块顶面之该等小孔相通。此外，基座表面于该环形凹槽外侧另设有一环绕之环形细槽，并以一O形气封置入其间。本创作可充分降低晶片于接触式曝光过程中所导致之破损率，提高半导体制程之良率及整体产量。

主权项

1.一种缓冲式曝光吸盘,包括一基座,其一表面设一具有适当宽度及深度之环形凹槽,该凹槽内侧形成一圆形凸块,其内部则为中空而形成一室,该圆形凸块之顶面设有多个小孔与该室相通,该室以一第一通路连接至一第一管接头,而该凹槽则以一第二通路连接至一第二管接头;该圆形凸块上设一大小约略相等之弹性材料,其上并设有多个孔洞与该圆形凸块顶面之该等小孔相通。2.根据申请专利范围第1项之缓冲式曝光吸盘,其中该基座表面于该环形凹槽外侧另设有一环绕之环形细槽,并以一O形气封置入其间。3.根据申请专利范围第1项之缓冲式曝光吸盘,其中该基座表面于该环形凹槽外侧设置一具适当高度之环形突面。4.根据申请专利范围第1项之缓冲式曝光吸盘,其中该基座之底部为一可拆卸之薄板。5.根据申请专利范围第1项之缓冲式曝光吸盘,其中该弹性材料系由生胶制成。6.根据申请专利范围第4项之缓冲式曝光吸盘,其中该弹性材料上另覆以一层胶布。图式简单说明:第一图为本创作之分解示意图;第二图为本创作组合后之整体外观,图中并包括一晶片与一光罩以显示其与本创作之叠置关系;及第三图为将晶片与光罩叠置于本创作上后之剖面示意图。