发明名称 CYCLIC SPIKE ANNEAL CHEMICAL EXPOSURE FOR LOW THERMAL BUDGET PROCESSING
摘要 단일 프로세싱 챔버 내에서의 막(film)의 순차적 증착 및 어닐링을 위한 장치 및 방법들이 제공된다. 프로세스 가스들로부터 격리되는 구역에서 프로세싱 챔버 내에 포지셔닝되는 에너지 소스가, 형성되고 있는 디바이스의 열 버짓(thermal budget)을 초과함으로 인해 하부 층들을 손상시키지 않으면서, 기판 상에 막을 급속하게 형성하고 분해(decompose)하는 데에 사용될 수 있다.
申请公布号 KR20160138246(A) 申请公布日期 2016.12.02
申请号 KR20167030027 申请日期 2015.03.25
申请人 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 发明人 톰슨, 데이비드;다이, 후이시옹;마틴, 패트릭 엠.;마이클슨, 티모시;나렌드나트, 카드탈라 알.;비저, 로버트 잔;수, 징징;창, 린
分类号 H01L21/02;C23C16/455;C23C16/458;C23C16/56;H01L21/324;H01L21/683;H01L21/687 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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