| 主权项 |
1.一种光罩,其特征在于具备:透明基板;于此透明基板之主面侧,依序积层第1氧化铬、铬及第2氧化铬所形成之防止反射构造;形成于第1氧化铬表面上与前述透明基板之界面上的防止反射膜。2.根据申请专利范围第1项之光罩,其中前述防止反射膜系形成于第1氧化铬表面上与前述透明基板之界面上,在防止反射膜之曝光波长的复数折射率,对于空气之相对折射率为n,衰退系数为k及其膜厚为d时,1.0<n<2.4,k<0.5,0.01m<d<0.3m。3.根据申请专利范围第1项之光罩,其中前述防止反射膜系形成于第2氧化铬表面,且在防止反射膜之曝光波长中之复数折射率,对于空气之相对折射率为n,衰退系数为k,及其膜厚为d时,1.0<n<1.55,0.01<k<0.3,0.03m<d<0.3m。4.根据申请专利范围第1项之光罩,其中防止反射膜系以碳、氧、氮及氢之至少一者作为主成分的有机物薄膜。5.根据申请专利范围第1项之光罩,其中防止反射膜为旋涂式玻璃膜。6.一种光罩,其特征在于具备:透明基板;在此透明基板之主面侧,第1氧化铬、铬及第2氧化铬乃依序积层而形成之防止反射构造;形成于第2氧化铬表面之至少一者的防止反射膜。7.根据申请专利范围第6项之光罩,其中防止反射膜系形成于第1氧化铬表面且与前述透明基板之界面,在防止反射膜之曝光波长中的复数折射率,对于空气之相对折射率为n,衰退系数为k及其膜厚为d时,1.0<n<2.4,k<0.5,0.01m<d<0.3m。8.根据申请专利范围第6项之光罩,其中前述防止反射膜系形成于第2氧化铬表面,在前述防止反射膜之曝光波长中的复数折射率,对于空气之相对折射率为n,衰退系数为k及其膜厚为d时,1.0<n<1.55,0.01<k<0.3,0.03m<d<0.3m。9.根据申请专利范围第6项之光罩,其中前述防止反射膜系以碳、氧、氮及氢之至少一者作为主成分的有机物薄膜。10.根据申请专利范围第6项之光罩,其中前述防止反射膜为旋涂式玻璃膜。11.一种光罩,其特征在于具备:透明基板;于此透明基板之主面侧,铬及氧化铬依序积层而形成之防止反射构造;配置于防止反射构造表面预定间隙,由透明构件所构成之薄膜;形成于前述薄膜表面之防止反射膜。12.根据申请专利范围第11项之光罩,其中前述防止反射膜系形成于前述薄膜之主面侧及背面侧的两者。13.根据申请专利范围第11项之光罩,其中在前述防止反射膜之曝光波长的复数折射率,对于空气之相对折射率为n,衰退系数为k及其膜厚为d时,1.0<n<2.4,k<0.5,0.01m<d<0.3m。图式简单说明:图1系表示习知光罩构成之一例的断面图。图2系使用习知光罩所形成之光阻图案的横式断面图。图3A~3C系本发明第1实施形态之光罩的制造方法步骤断面图。图4系使用同实施形态之光罩而形成图案之被处理基板的模式断面图。图5A及5B系本发明第2实施形态之光罩制造方法的步骤断面图。图6A~6C系本发明第3实施形态之光罩制造方法的步骤断面图。图7A~7C系同实施形态之光罩的变形例之断面图。图8A~8D系本发明光罩之变形例的断面图。图9A~9C系本发明光罩之变形例的断面图。图10A~10E系本发明光罩之变形例的断面图。图11系用以说明本发明光罩之较佳参数。 |
