| 摘要 |
本发明系有关在一母基材上来制成一可移除系统的方法。该方法系沈积一高表面体积比的牺牲层于一母基材上，并藉a)除掉该牺牲层中及其上的挥发化学物，及／或b)修正该层表面，而来稳定化该牺牲层。该方法会以一覆盖介质来覆盖在牺牲层上。一系统会被制设在该覆盖层上。该方法会形成贯孔来通达该牺牲层。该方法亦会设一顶层于该系统上来形成一包封系统。本发明亦包含除掉牺牲层来使该系统由母基板释离的步骤。本发明之方法亦包括选择性地除掉该系统与该覆盖层的一部份来形成限一岛块阵列的空隙区，该岛块阵列系由元件、结构或系统与覆盖层区块等所组成；并以一牺牲材料来选择性地填满该围限岛块的空隙区。在此等方法中，该牺牲材料及高表面体积比的牺牲层将会被除去，而由该母基材释开该系统。本发明的方法亦包括在该释离系统之覆盖材料侧上布设一料层来形成一结构，而该系统系大致位于一弯曲应力减少的中立平面中。依据本发明所制成的系统乃可被置设于各种适当的基材上，包括挠性基材。 |
