| 发明名称 |
LASER EXPOSURE OF PHOTOSENSITIVE MASKS FOR DNA MICROARRAY FABRICATION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2003303106(A1) |
申请公布日期 |
2004.08.13 |
| 申请号 |
AU20030303106 |
申请日期 |
2003.11.26 |
| 申请人 |
INTEL CORPORATION |
发明人 |
VALLURI RAO;MINEO YAMAKAWA;ANDREW BERLIN |
| 分类号 |
B01J19/00;B05D3/00;C12M1/34;C12Q1/68;G03F1/00;G03F7/20;(IPC1-7):C12Q1/68 |
主分类号 |
B01J19/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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