侦测遮罩缺陷之方法、电脑程式及参考基板

摘要

本发明揭示一种侦测遮罩缺陷之方法，其中一参考基板系在制造该遮罩之后马上利用该遮罩来图案化。该参考基板系储存在IC制造发生之无尘状况下。当怀疑有一遮罩缺陷时，一光阻涂布基板(该测试基板)系利用该遮罩之曝光来图案化。位在该参考基板及测试基板上之图案系相比较以决定是否存在一遮罩缺陷。该遮罩缺陷之位置可以利用扫描该等图案的较小区域来发现。