| 摘要 |
본 발명의 일 실시예는, 기판 상에, 제1 상면을 구비한 제1 영역과, 상기 제1 상면과 단차를 이루는 제2 상면을 구비한 제2 영역을 포함하는 레지스트부를 형성하는 단계; 상기 레지스트부를 덮는 제1 보호층을 형성하고, 상기 제2 상면보다 더 높은 위치에 위치하는 상기 제1 상면을 노출시키는 단계; 상기 기판 상에 제1 박막을 형성하기 위해, 상기 제1 상면이 노출된 상기 제1 영역을 제거하는 단계; 상기 레지스트부를 덮는 제2 보호층을 형성하고, 상기 제2 상면을 노출시키는 단계; 상기 기판 상에 제2 박막을 형성하기 위해, 상기 제2 상면이 노출된 상기 제2 영역을 제거하는 단계; 및 상기 제2 보호층을 제거하는 단계;를 포함하는 박막 형성 방법을 개시한다. |
