发明名称 用于高级微电子应用及装置之平面膜及其制造方法
摘要 本发明揭露一种平面组合物,其包括:a)结构成分;及b)溶剂系统,其中溶剂系统与结构成分相容且降低至少一种平面组合物的分子间力或表面力成分。同时也揭露一种包括本平面组合物的平面膜。另外,本文揭露另一种平面组合物包括:a)甲酚基聚合体化合物;及b)包括至少一醇及至少一醋酸为主之醚溶剂之溶剂系统。也揭露一种包括本平面组合物的平面膜。本文也揭露一种叠层成分,包括:a)一具有表面布局之基板;及b)如本文所述之一平面组合物或平面膜,其中该组合物系与基板耦合。本文也揭露形成平面组合物的方法,包括:a)提供结构成分;及b)提供溶剂系统,其中溶剂系统与结构成分相容且降低至少一种平面组合物的分子间力或表面力成分;及c)掺合结构成分及溶剂系统以形成一种平面组合物。也揭露形成平面膜的方法,包括:a)提供一种如本文所揭露之平面组合物;及b)蒸发至少一部份溶剂系统以形成膜。092130707-p01.bmp
申请公布号 TW200503890 申请公布日期 2005.02.01
申请号 TW092130707 申请日期 2003.11.03
申请人 哈尼威尔国际公司 发明人 黄伟;乔瑟夫 甘乃迪;雷诺R. 卡山恩
分类号 B32B27/00 主分类号 B32B27/00
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国