发明名称 微影装置及元件制造方法
摘要 本发明揭示一种用于一浸没微影投影装置之液体供应系统,其中在该投影系统、一障壁构件与一基板之间界定一空间。该障壁构件未密封,因此在使用期间允许浸液流出该空间,并于该障壁构件与该基板之间流动。
申请公布号 TW200534031 申请公布日期 2005.10.16
申请号 TW093139476 申请日期 2004.12.17
申请人 ASML公司 发明人 海莫 范 参登;爱克夏 寇兰辛嘉寇 忧里微其;YURIEVICH
分类号 G03B27/52 主分类号 G03B27/52
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰