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发明名称 POLISHING PAD FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND APPARATUS USING THE SAME
摘要
申请公布号 KR20060002191(A) 申请公布日期 2006.01.09
申请号 KR20040051129 申请日期 2004.07.01
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 PARK, MOO YONG;LEE, TAE HOON;KOO, JA EUNG
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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