发明名称 SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND SEMICONDUCTOR ELEMENT
摘要 본 발명은 기판과, 상기 기판 상의 버퍼층과, 상기 버퍼층 상의 질화물계 반도체를 포함하고, 전이 금속 및 탄소를 포함하는 고저항층과, 상기 고저항층 상의 질화물계 반도체를 포함하는 채널층을 갖는 반도체 기판이며, 상기 고저항층은, 상기 채널층에 접함과 함께 상기 버퍼층측으로부터 상기 채널층측을 향하여 상기 전이 금속의 농도가 감소하는 감소층을 갖고, 탄소 농도의 상기 채널층을 향하여 감소하는 감소율은, 상기 전이 금속의 농도의 상기 채널층을 향하여 감소하는 감소율보다도 큰 것을 특징으로 하는 반도체 기판이다. 이에 의해, 채널층 내의 탄소 농도 및 전이 금속의 농도를 내리면서, 고저항층의 채널층측의 영역의 고저항화를 도모할 수 있는 반도체 기판을 제공할 수 있다.
申请公布号 KR20160138090(A) 申请公布日期 2016.12.02
申请号 KR20167027607 申请日期 2015.03.05
申请人 산켄덴키 가부시키가이샤;신에쯔 한도타이 가부시키가이샤 发明人 사또, 겐;시까우찌, 히로시;고또, 히로까즈;시노미야, 마사루;쯔찌야, 게이따로;하기모또, 가즈노리
分类号 H01L29/778;H01L21/285;H01L29/20;H01L29/207 主分类号 H01L29/778
代理机构 代理人
主权项
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