| 摘要 |
묘화 장치에서는, 촬상 장치(5)에 의해 캘리브레이션 플레이트의 화상인 참조 화상이 취득된다. 광학 특성 취득 장치(8)에서는, 화상 기억부(81)에 의해 참조 화상이 기억된다. 계속해서, 연산부(82)에 의해, 참조 화상에 있어서의 각 도형 요소의 화소값 분포가, 편미분 가능한 모델 함수로 모델화된 다음, 모델 함수에 포함되는 복수의 계수가 최적화법으로 결정됨으로써 취득된다. 그리고, 광학 특성 취득부(83)에 의해, 각 도형 요소의 화소값 분포에 의거하여 촬상 장치(5)의 광학 특성이 취득된다. 광학 특성 취득 장치(8)에서는, 각 도형 요소의 상을 형성하는 화소값이 적은 경우여도, 각 도형 요소의 상의 화소값 분포를 고정밀도로 구할 수 있다. 그 결과, 촬상 장치(5)의 광학 특성을 정밀도 좋게 취득할 수 있다. |
