AUTOFOCUS METHOD AND APPARATUS FOR WAFER SCRIBING

摘要

본 발명은, 웨이퍼 스크라이빙(scribing) 시스템을 위해 실시간 오토포커스를 실행하는 방법 및 장치에 관한 것이다. 이 방법 및 장치는, 스크라이빙 레이저 빔을 위해 대물렌즈(26) 바로 아래에서 웨이퍼(10)의 표면(50)에 지표각으로 보내지는 편광 광(42)을 사용한다. 웨이퍼로부터 반사된 광은 필터링되어(56) 스크라이빙 레이저 빔으로부터 광을 제거한 후 위치 감응 장치(58) 상에 집속되어 대물렌즈로부터 웨이퍼 표면까지의 거리를 측정한다.