发明名称 Thin film deposition apparatus and substrate processing system comprising the same
摘要 박막 증착 장치는 증착 챔버와, 서셉터와, 회전기구와, 승강 부재, 및 승강 구동유닛을 포함한다. 증착 챔버는 증착 공정이 행해지는 내부 공간을 갖는다. 서셉터는 증착 챔버 내에 설치되며, 상면에 복수의 기판들이 안착된다. 회전기구는 서셉터를 회전 동작시킨다. 승강 부재는 서셉터 상부에 구비되어 서셉터 상에 안착된 기판들의 각 변부를 일부 지지하며, 승강 구동시 서셉터로부터 기판들을 분리시키거나 서셉터로 기판들을 안착시킨다. 승강 구동유닛은 승강 부재를 승강시킨다.
申请公布号 KR101685150(B1) 申请公布日期 2016.12.09
申请号 KR20110004213 申请日期 2011.01.14
申请人 주식회사 원익아이피에스 发明人 이호영;박상준;허진필;손병국;장욱상;이경철
分类号 H01L21/687;C23C16/458;H01L21/02;H01L21/673 主分类号 H01L21/687
代理机构 代理人
主权项
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