| 主权项 |
1.一种减感一辐射敏感影像系统之方法 ,该系统包含一染料与一四(氢换基 )硼盐在一黏合剂内,此方法包括将 一选自酸,醛,过氧化物,苯 ,碘 及易还原之金属离子,引入黏合剂使 之与该四(氢碳基)硼盐成为一含少 于四个碳一硼键之化合物。2.根据上述请求专利 部份第1.项之方法 ,其中该转化作用系藉引入一酸与该 四(氢碳基)硼盐成活性的缔合而成3.根据上述请求 专利部份第2.项之方法 ,其中该酸系自包括无机酸、羧酸、 脂族磺酸、脂族亚磺酸、及氟化羧酸 等一群中选出。4.根据上述请求专利部份第1.项之 方法 ,其中该转化作用系藉引入一醛与该 四(氢碳基)硼盐成活性的缔合而成 。5.根据上述请求专利部份第1.项之方法 ,其中该转化作用系藉引入一过氧化 物与该四(氢碳基)硼盐成活性的缔 合而成。6.根据上述请求专利部份第1.项之方法 ,其中该转化作用系藉引入一 与该 四(氢碳基)硼盐成活性的缔合而成 。7.根据上述请求专利部份第1.项之方法 ,其中该转化作用系藉引入碘与该四 (氢碳基)硼盐成活性的缔合而成。8.根据上述请求 专利部份第1.项之方法 ,其中该转化作用系藉引入易还原的 金属离子与该四(氢碳基)硼盐成活 性的缔合而成。9.根据上述请求专利部份第1.、2. 、3. 、4.、5.、6.、7.或8.项之方法,其 中该四(氢碳基)硼盐系与一阳离子 性染料缔合。10.根据上述请求专利部份第1.、2.、 3. 、4.、5.、6.、7.或8.项之方法,其 中该四(氢碳基)硼盐有如下构造式 : 其中R1.R2.R3与R4各系自 碳原子结合于硼之基,选自含不超过 20碳原子之烷基、芳基。烷芳基、 芳烷基、烯基、炔基、氰基、杂环基 及烷基杂环基,又 X+系除裂开硼盐之至少一碳- 硼键者以外之任何阳离子。11.根据上述请求专利 部份第9.项之方法 ,其中该四(氢碳基)硼体有化学式 其中R1.R2.R3与R4各系选 自含不超过20碳原子之烷基,芳基 ,烷芳基,芳烷基,烯基,炔基,氰 基,杂环基及烷基杂环基。12.根据上述请求专利部 份第10.项之方法 ,其中X+系一阳离子性染料。13.根据上述请求专利 部份第11.项之方法 ,其中X+系一阳离子性染料。14.根据上述请求专利 部份第1.项之方法 ,乃于该幅射敏感成像系统已经在影 像位置暴露于幅射后完成。15.根据上述请求专利 部份第9.项之方法 ,乃于该幅射敏感成像系统已经在影 像位置暴露于幅射后完成。 |
