| 发明名称 |
VACUUM PLATING A SUBSTRATE USING RF FIELD AND DC ION ACCELERATING POTENTIAL |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
NZ197232(A) |
申请公布日期 |
1984.12.14 |
| 申请号 |
NZ19810197232 |
申请日期 |
1981.05.28 |
| 申请人 |
ILLINOIS TOOL WORKS INC. |
发明人 |
WHITE, G. W.;VOLKERS, J. C. |
| 分类号 |
C23C14/24;C23C14/32;(IPC1-7):C23C13/02;C23C13/08 |
主分类号 |
C23C14/24 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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