| 摘要 |
안테나 구조물(2)은 적어도 비도전성 기판(3) 및 기판(3)에 의해 지지되는 전기적으로 도전성 안테나 라인 구성(4', 4", 4"')을 포함하고, 전기적으로 도전성 안테나 라인 구성(4', 4", 4"')은 기판(3)에 의해 지지되는 전기적으로 도전성 코팅 물질을 에천트(etchant)에 의해 로컬적으로 에칭(etching away)함으로써 에칭 프로세스에서 형성된다. 안테나 구조물(2)은 동일한 전기적으로 도전성 코팅 물질의 적어도 하나의 전기적으로 도전성 튜닝 엘리먼트(7)를 더 포함한다. 튜닝 엘리먼트(7)는 동일한 에칭 프로세스에서 전기적으로 도전성 안테나 라인 구성(4', 4", 4"')과 동시에 적어도 부분적으로 형성되고, 튜닝 엘리먼트(7)는 에칭 프로세스 후에 안테나 구조물(2)의 전기적 속성들에서 과도(over) 또는 미달(under) 에칭의 효과를 적어도 부분적으로 보상하기 위한 치수적 형상(dimensional shape) 및 기하학적 구조(geometry)를 갖는다. |
