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经营范围
发明名称
半导体雷射
摘要
申请公布号
TW088213
申请公布日期
1987.06.16
申请号
TW075103363
申请日期
1986.07.22
申请人
新力股份有限公司
发明人
池田昌夫
分类号
H01S3/85
主分类号
H01S3/85
代理机构
代理人
何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼;洪武雄 台北巿城中区武昌街一段六十四号八楼
主权项
一种半导体雷射,至少在散热座侧于邻接活性层处具有包盖层,包含有AlGaInP层,该层呈现有对上述活性层的载子进行禁止进入的效果,具有范围小的厚度,具有比上述活性层大的能量能带隙幅度;和包含有AlGaAs 层,其热传导度比AlGaInP 层者高,其屈折率比上述活性层者小,主要的功能用来进行光的禁止进入;由AlGaInP 层和AlGaAs 层来形成半导体雷射为其特征。
地址
日本
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