| 摘要 |
본 발명은 본 발명은 급속 열처리 공정(Rapid Thermal Processing, RTP)을 위한 장치에 관한 것으로서, 기판을 열처리하는 급속 열처리 장치에 있어서, 기판이 안착되는 제1서셉터와, 상기 제1서셉터에 결합되어 상기 제1서셉터를 관통하여 승강되도록 형성되며, 상기 기판을 로딩 및 언로딩하는 제2서셉터를 포함하는 것을 특징으로 하는 서셉터 유닛을 포함한 급속 열처리 장치를 기술적 요지로 한다. 이에 의해 본 발명은 제1서셉터와 제2서셉터를 구현하여, 기판의 지지와 승하강을 위한 기판의 로딩 및 언로딩을 위한 구성이 일체로 형성되어 기판의 온도 균일도를 향상시키고 장치를 최적화하여 공정이 안정적으로 구현되도록 하는 이점이 있다. |
