| 主权项 |
1.一种在雷射气体(特别是CO2-He-N混合气体)之电激压处理中,雷射气体是与轴向雷射气体排放段垂直地输入并被以垂直于雷射气体排放段之角度收容之微波激发,其改良是雷射气体被送到微波设施区内而于此处被激发,微波及被激发之雷射气体经分皎设备扩散至构成雷射气体排放段之臂机构内。2申请专利范围第1项之处理,其中微波在波导内之波长远大于雷射气体排放段之直嫦尺寸。3.申请专利范围第1项之处理,其中雷射气体排放段与谐振器之光轴重合。4.申请专利范围第1项之处理,其中雷射气体输入口是同轴波导之结构,冲击之微波于短略处被反射,并且于靠近至少一个激发器之处产生电气激筵场强度,往该激发器内承载一个介质流通元件。5.申请专利范围第1项之处理,其中微波频率为2.45GHz。6.一种往快速流动之CO2高幼能气体雷射中,雷射气体流过至少一个排放模组以进行电激毁处理,并且设有至少一个在柿赫频率范围之微波发送机,其中排放管与微波发送机经一个波导彼此互接,其改良是排放模组由具有两个等长艾臂之T形分岐,雷射气体排于段垂直于具有一臂与雷射气体输入口相连之L分岐之轴向辐射气体排放段,引至微波发送机之波导笙直于轴向雷射气体排放段并与雷射气体输入口之分岐靠近。7.申请专利范围第6项之气体雷射,其中波导为方形截面,在波导之一侧设有两个螺丝以构成阻抗匹配波导段,各螺丝位于该侧之一半处,螺丝之中心距离对应于波导内波长之波,一个螺丝至长度中心之距离等于波导内波长之Vl6。8.申请专利范围第6项之气体雷射,其中所有的臂都是波导,雷射气体输入口则为同轴波导并设有短略件。9.申请专利范围第6项之气体雷射,其中同轴波导之长度对应于同轴波导内之波长1-/4,短件酪件在同轴波导之电气封闭端构成一个金属之激筵器装设件可容所要之气体通过但屏澦微波于内部,并且装设至少一个激发器。10.申请专利范围第8项之气体雷射,其中激发器伸入同轴波导之深度可调整,位于直径大于其自由端直径。11.申请专利范围第6项之气体雷射,其中具有分岐之介质排放管同轴心地置于波导内侧。12.申请专利范围第6项之气体雷射,其中封闭是在同轴波导与介质排放管之入口之间。13.申请专利范围第6项之气体雷射,其中波导在其面对外反射板之侧被端板封前以防止微波漏出,在端板设有中央穿透开口以让直径较小之排放管通过。14.申请专利范围第13项之气体雷射,其中波导为方形截面。15.申请专利范围第14项之气体雷射,其中楔形金属嵌件置于波导内侧,在与波导连接之壁及与此壁相对之壁上而减少此波导之宽度至“截止宽度"。16.申请专利范围第13项之气体雷射。其中该特殊形状之金属棒具有半圆形表面,并且被置于与同轴波导相连之壁及其相对壁上以形成电场。17.申请专利范围第16项之气体雷射,其中金属棒之宽度小于排放管直径。18.申请专利范围第13项之气体雷射,其中该波导为圆形截面。19.申请专利范围第13项之气体雷射,其中该特殊形状之金属棒置于圆柱形波导内。20.申请专利范围第6项之气体雷射,其中雷射气体之输入浸切线方式。21.申请专利范围第20项之气体雷射,其中激发器是设于波导内侧,靠近雷射气体输入口及波导。22.申请专利范围第6项之气体雷射,其中波导用介质窗封闭。23.申请专利范围第22项之气体雷射,其中窗以气密方式插入两圆形突缘。24.申请专利范围第2项之气体雷射,其中窗用金属一陶瓷混合物封闭。25.申请专利范围第22项之气体雷射,其中紧跟于窗后并面对气体排放段之空间面积大于波导之截面积。26.一种往激发由CC2-He-N混合气体沂构成而垂直于轴向雷射气体排放段输出,并由与雷射气体排放垂直设置之微波激发之雷射气体的处理中,其改良是雷射气体被横向输入并在整雷射气体排放段上排出,冲击于雷射气体输入口之微波于短路处反射,及在靠近数个激发器处,在整个雷射气体排放段上产生电场强度。27.申请专利范围第26项之雷射气体激发处理,其中雷射气体排放段与谐振器之光轴重合。28.一种在快速流通CO2高功能气体雷射内,用至少一个供雷射气体流过之排放空间及至少一个在柿赫范围之微波发送机,其中排放空间及微波发送机经一波导彼此互接,其改良是排放空间是由方形截面之波导构成而方形截面之雷射气体输入口几乎涵盖其所连接之整个排放空间,此排放空间构成一个波导,收容微波之波导设于与排放空间及雷射气体输入口垂直之中央区29.申请专利范围第28项之气体雷射,其中波导为方形截面,吱波导之一侧设有两个螺丝以构成阻抗匹配波导段,一个螺丝位于波导之该侧之一半处,螺丝之中心距离对应于波导内波长之波,一个螺丝至长度中心之距离为波导内波长波。30.申请专利范围第28项之气体雷射,其中雷射气体输入口设有短路件,并具有开口供气体流入。31.申请专利范围第28项之气体雷射,其中雷射气体输入口是个方形同轴波导而其短略件供做激发器装设件。32.申请专利范围第28项之气体雷射,其中特殊形状之金属棒装设于排放空间之短侧之内面。33.申请专利范围第28项之气体雷射,其中特殊形状之金属网设于雷射气体出口之长侧以屏蔽微波于内及确保雷射气体流出。 |
