| 发明名称 | 光学记录媒体及其制作方法 | ||
| 摘要 | 一种光学记录媒体，它包含基片、沉积在基片上的记录层以及沉积在记录层的光反射侧和/或光透射侧的保护膜，保护膜至少要含有Si、Cr和N。一种制备具有记录层以及基片上有保护膜的光学记录媒体的方法，该方法包括下列步骤：制作由Si以及从金属元素、半金属元素和半导体元素中选出的至少一种电阻率小于Si的元素组成的合金靶所构成的阴极，在至少含有惰性气体和氮气的气氛中进行DC磁控溅射，沉积出保护膜。 | ||
| 申请公布号 | CN1046226A | 申请公布日期 | 1990.10.17 |
| 申请号 | CN90102003.6 | 申请日期 | 1990.04.06 |
| 申请人 | 三井石油化学工业株式会社 | 发明人 | 山浩二;桥本英彦 |
| 分类号 | G03G5/00 | 主分类号 | G03G5/00 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人 | 王以平 |
| 主权项 | 1、一种光学记录媒体，包括：基片，沉积在基片上的记录层，沉积在上述记录层的光反射侧和/或光透射侧的保护膜，以及至少含有Si、Cr和N的保护膜。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||