发明名称 无电用镀铜溶液
摘要 一种包括-铜盐,-铜错合剂,-还原剂,-pH调节剂,L-精氨酸以及包括至少2,2′-联啶与一氰基错合化合物中之一种的无电用镀铜溶液,可得到具有高延性,高黏附之与优良机械性质的镀膜。
申请公布号 TW150377 申请公布日期 1991.01.21
申请号 TW079100044 申请日期 1990.01.04
申请人 日立化成工业股份有限公司 发明人 田隆夫;赤槷谕;仓持和巿;豊田弘之;綦崎威
分类号 C23C18/54 主分类号 C23C18/54
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1﹒一种无电用镀铜溶液,其包含:选自硫酸铜,硝酸铜,氯化铜之铜盐;选自四水合酒石酸钾钠,夸德绕勒(Quadrol),N,N﹒,N',N'—四乙二胺及乙二胺四醋酸之铜错合剂;选自甲醛及对甲醛之还原剂,以及当做pH调节剂主要成份之硷性氢氧化物;以及L—精氨酸及,—联啶及/或氰基错合化合物。2﹒如申请专利范围第1项所述之无电用镀铜溶液,其中L—精氨酸的浓度为0﹒05到50mg/l而,'—联啶的浓度为╮@捶鮈陕砭砭鶔鵅禲C3﹒如申请专利范围第1项所述之无电用镀铜溶液,其中氰其错合化合物至少为由氰亚铁酸钠,氰亚铁酸钾,氰铁酸钠,氰铁酸钾,氰镍酸钾以及硝普钠所组成之群中的一种。4﹒如申请专利范围第1项所述之无电用镀铜溶液,其中L—精氨酸的浓度为0﹒05到50mg/l,而氰基错合化合物的浓度为0﹒05到30mg/l。图示简单说明附图说明一种供黏附测试之用的型式。
地址 日本