发明名称 新颖次 衍生物,含彼等之防晒组合物及使用彼等保护基质不受紫外线辐射伤害之方法
摘要 一种保护基质以防止紫外辐射之有害作用之方法,包括局部施用一载剂,该载剂中掺有择自通式Ⅰ及Ⅱ且其量足以对紫外辐射之有害作用提供保护之化合物:□ Ⅰ□ Ⅱ其中:X及Y系独立择自-CN,-COOR12,-CONHR12--CON(R12)2,-PhCOOR12,PhCOR12,-PhOR12,-PhN(R12)2,且其中只有一个X或Y被-H取代,且R1-R11系择自H,-OH,-COOR12,具有1-5个碳原子之烷基,烷氧基或羟基烷基,且R12系择自H,具有1-22个碳原子之烷基,烷基芳基或芳基烷基,且 Ph为苯环,含有某些取代次及含量范围0.1-50%(重量计)之可接受载体之防晒组合物,及下式化合物:□ Ⅱ其中:X及Y系独立择自-CN,-COOR12,-CONHR12,-CON(R12)2,-PhCOOR12,-PhCOR12,-PhOR12,-PhN(R12)2,或其中只有一个X或Y被-H取代,且R1-R11系择自H,-OH,-COOR12,具有1-5个碳原子之烷基,烷氧基或羟基烷基,且R12系择自H,具有1-22个碳原子之烷基,烷基芳基或芳基烷基,且 Ph为苯环。
申请公布号 TW156352 申请公布日期 1991.04.21
申请号 TW078105954 申请日期 1989.08.02
申请人 卜内门化学工业有限公司 发明人 查拉拉伯斯.约翰.法拉卡;汤玛士.派克.克里瑞
分类号 C09D 主分类号 C09D
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1﹒一种保护基质以防止紫外线辐射之有害作用之方法,包括局部施用一载剂,该载剂中掺有择自通式I及Ⅱ且其量足以对紫外线幅射之有害作用提供保护之化合物:其中X及Y系独立择自─CN,─COOR12,─CONHR12──CON(R12)2,─PHCOOR12,PHCOR12,─PHOR12,─PhN(R12)2且其中只有一个X或Y被─H取代,且R1─R11系择自H,─OH,COOR12,具有1─5个碳原子之烷,烷氧基或羟基烷基,且R12系择自H或具有1─22个碳原子之烷基,烷基芳基或芳基烷基,且ph为苯环,其中该基质为温血动物之皮肤。2﹒根据申请专利范围第1项之方法,其中该化合物加入该组合物中之量介于以重量计从约0﹒1到约50%间。3﹒根据申请专利范围第2项之方法,其中该化合物加入该组合物中之量介于以重量计从约0﹒1到约30%间。4﹒根据申请专利范围第1项之方法,其中该化合物系溶于该载剂中。5﹒根据申请专利范围第1项之方法,其中该载剂为水性乳剂。6﹒根据申请专利范围第1项之方法,其中R1.R2.R5─R8,R10及R11为H;R3.R4及R9为─CH3;而X及Y为─COOCH3。7﹒一种防晒组合物,包含一可接受载剂,该载剂含有以重量计0﹒1─5%且择自式I及Ⅱ之化合物:其中:X及Y系独立择自╮@wCN,─COOR12,─CONHR12CON(R12)╮@情A─PhCOOR12,─PhCOR12,─PhOR12﹛@A─PhN(R12)2,或其中只有一个X或Y为─H,且R╮@陕wR11系择自H,─OH,─COOR12,具有1─5个满@珥鴗l之烷基,烷氧基,或羟基烷基,且R12系择自H或具有╮@陕w22个碳原子之烷基,烷基芳基或芳基烷基,且Ph为苯环﹛@C8﹒根据申请专利范围第7项之组合物,其中R1,R2及R3系择自─CH3及─H;且R系择自甲基及乙基。9﹒根据申请专利范围第7项之组合物,其中X及Y系择自─COR,─PhCO2R,─PhCOR,─PhOR,─PhNH2,─PhH,─PhNR2,其中R为─CnH2n+1且Ph为苯环。10﹒根据申请专利范围第7项之组合物,具有至少一种择自式I及式Ⅱ之化合物及至少另一种能吸收在320─400nm范围内的辐射的化合物。11﹒根据申请专利范围第7项之组合物,其中R1.R2.R5─R8,R10及R11为H;R3;R4及R9为─CH3;而X及Y为─OOCH3。12﹒下式化合物:具中:X及Y系独立择自─CN,─COOR12,─CONHR12,─CON(R12)2,─PhCOOR12,─PhCOR12,─PhOR12,─PhN(R12)2,或其中只有一个X或Y被─H取代,且R1─R11系择自H,─OH,─COOR12,具有1─5个碳原子之烷基,烷氧基或羟基烷基,且R12系择自H或具有1─22个1碳原子之烷基,烷基芳基或芳基烷基,且Ph为苯环。13﹒根据申请专利范围第12项之化合物,其中X及Y系择自─CN,─C0OR12或─COR12。14﹒根据申请专利范围第12项之化合物其中X及Y系择自─COOR12。15﹒根据申请专利范围第12项之化合物,其中R1.R2.R5─R8,R10及R11为H;R3.R4及R9为─CH3;而X及Y为─COOCH3。
地址 美国