发明名称 |
有机层组合物、有机层以及形成图案的方法 |
摘要 |
本发明涉及有机层组合物,所述有机层组合物包含具有经取代或未经取代的芴结构的聚合物、由下述化学式1表示的添加剂、以及溶剂;通过固化所述有机层组合物形成的有机层;以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述有机层组合物能够改善间隙填充特征和平坦化特征以及耐蚀刻性。化学式1中各符号的定义与实施方式中所定义相同。<img file="DDA0000874755860000011.GIF" wi="407" he="268" /> |
申请公布号 |
CN106046695A |
申请公布日期 |
2016.10.26 |
申请号 |
CN201510919236.X |
申请日期 |
2015.12.11 |
申请人 |
三星SDI株式会社 |
发明人 |
姜善惠;南沇希;金旼秀;豆米尼阿·拉特维;朴惟廷;宋炫知;梁善暎 |
分类号 |
C08L65/00(2006.01)I;C08G61/12(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I |
主分类号 |
C08L65/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 |
代理人 |
李艳;臧建明 |
主权项 |
一种有机层组合物,其包括:包括经取代或未经取代的芴结构的聚合物,由化学式1表示的添加剂,以及溶剂:[化学式1]<img file="FDA0000874755840000011.GIF" wi="403" he="260" />其中,在化学式1中,k、m以及n各自独立地是0或1,并且k、m以及n的总和是2或3,当k+m+n=3时,X是CH或氮,当k+m+n=2时,X是直接键、‑(C<sub>q</sub>H<sub>2q</sub>)‑、‑(C<sub>t</sub>R<sup>w</sup><sub>2t</sub>)‑、氧、硫或‑S(O<sub>2</sub>)‑,其中q以及t各自独立地是1到5的整数,并且R<sup>w</sup>是经取代或未经取代的C1到C20烷基、经取代或未经取代的C6到C30芳基、经取代或未经取代的C3到C30环烯基、经取代或未经取代的C1到C20烷基胺基、经取代或未经取代的C7到C20芳基烷基、C1到C20杂烷基、经取代或未经取代的C2到C30杂环烷基、经取代或未经取代的C2到C30杂芳基、经取代或未经取代的C1到C4烷基醚基、经取代或未经取代的C7到C20芳基亚烷基醚基、经取代或未经取代的C1到C30卤烷基、经取代或未经取代的C2到C20烯基或其组合,以及R、R′以及R”各自独立地是氢、羟基、经取代或未经取代的C3到C30单价环基、经取代或未经取代的C1到C30单价直链基团或其组合。 |
地址 |
韩国京畿道龙仁市器兴区贡税路150-20号 |