发明名称 | 可采用激光的热敏元件 | ||
摘要 | 一种热敏成像元件,包括在至少一个表面上涂有热敏成像体系的基材,该热敏成像体系包括含有如下组分的至少一层:非光敏性有机银盐、银离子用还原剂、粘合剂、调色剂和在波长范围约750-1100nm内吸收辐射的染料。优选存在一与含有非光敏有机性银盐等的层相邻的层,该层含有粘合剂和另外在750-1100nm内吸收辐射的染料。当成像元件在0.10-2.0J/cm<SUP>2</SUP>的750-1100nm辐射下曝光0.2-200微秒时形成大于约1.0的影像密度。当将在两个相邻层或仅在含粘合剂和染料的层中具有吸收辐射的染料的热敏成像元件成像时,在照射含有吸收辐射的染料和粘合剂的相邻层前,使辐射通过含有非光敏性有机银盐等的层。 | ||
申请公布号 | CN1158660A | 申请公布日期 | 1997.09.03 |
申请号 | CN95195324.9 | 申请日期 | 1995.08.01 |
申请人 | 伊美申公司 | 发明人 | R·E·比利斯;D·C·威格尔 |
分类号 | G03C1/498 | 主分类号 | G03C1/498 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 李勇 |
主权项 | 1.一种热敏成像元件,包括在至少一个表面上涂有热敏成像体系的基材,该热敏成像体系包括含有如下组分的至少一层:非光敏性有机银盐、银离子用还原剂、粘合剂、调色剂和在波长范围750-1100nm内吸收辐射的染料,其中所述包括所述非光敏性有机银盐的至少一层,当在0.10-2.0J/cm2 辐射下曝光0.20-200微秒时形成大于约1.0的影像密度。 | ||
地址 | 美国明尼苏达州 |