发明名称 彩色影像管及其制造方法
摘要 其目的为提供改善由遮蔽屏之渗杂之纯度偏善,而减少放射寿命劣化之彩色影像管,其构成为将包含氧化钨及/或者氧化铋微粒子与含有磷酸铝之胶合剂之薄膜设置于遮蔽屏之电子枪侧。
申请公布号 TW364144 申请公布日期 1999.07.11
申请号 TW084100491 申请日期 1995.01.20
申请人 东芝股份有限公司 发明人 大竹康久;村松祥子
分类号 H01J29/06 主分类号 H01J29/06
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种彩色影像管,其特征为:针对具备萤光面及,拥有设置于该萤光面附近之多数开孔之遮蔽屏及,穿通该遮蔽屏,然后将电子射突于该萤光面之电子枪之彩色影像管,前述遮蔽屏系于其电子枪侧,拥有包含氧化钨及/或者氧化铋之微粒子与,含有磷酸铝之胶合薄膜。2.如申请专利范围第1项之彩色影像管,其中前述氧化钨及/或者氧化铋微粒子之含有量为全薄膜重量之15至60%重量。3.如申请专利范围第1项之彩色影像管,其中前述氧化钨及/或者氧化铋微粒子之直径为0.2至2m。4.如申请专利范围第1项之彩色影像管,其中前述含有磷酸铝之胶合剂系更加地含有氧化硼。5.如申请专利范围第3项之彩色影像管,其中前述氧化硼素系为磷酸铝中之氧化铝换算量之10至25%重量。6.如申请专利范围第1项之彩色影像管,其中前述包含磷酸铝之胶合剂系关于对于针对磷酸铝中之氧化铝的磷酸化学计量之过剩量,更加地包含相当于70至140%重量之量的氧化铝及/或者氧化铋。7.一种彩色影像管之制造方法,其特征为:针对具备萤光面及,拥有设置于该萤光面附近之多数开孔之遮蔽屏及,穿通该遮蔽屏开孔,然后将电子光束射突于该萤光面之电子枪的彩色影像管之制造方法,于含有磷酸铝之胶合剂中,将氧化钨及/或者氧化铋的粒子分散,然后调制悬浮液,将所得到之悬浮液涂抹于前述遮蔽屏之电子枪侧的面上,再由烧成所得到之涂布膜,包含形成薄膜于前述遮蔽屏之电子枪侧之工程的彩色影像管制造方法。8.如申请专利范围第7项之彩色影像管之制造方法,其中前述氧化钨及/或者氧化铋微粒子之含有量为全薄膜重量之15至60%重量。9.如申请专利范围第7项之彩色影像管之制造方法,其中前述氧化钨及/或者氧化铋微粒子之直径为0.2至2m。10.如申请专利范围第7项之彩色影像管之制造方法,其中前述含有磷酸铝之胶合剂系更加地含有氧化硼元素。11.如申请专利范围第10项之彩色影像管之制造方法,其中前述氧化硼元素系为磷酸铝中之氧化铝换算量之10至25%重量。12.如申请专利范围第7项之彩色影像管之制造方法,其中于前述氧化硼素,关于对于在磷酸铝中之氧化铝的磷酸之化学计量的过剩量,更加地添加相当于其70乃140%重量之量的氧化铝及/或者氧化镁。图式简单说明:第一图表示有关于本发明之彩色影像管的全体构成剖面图。第二图表示本发明的遮蔽屏之重要部分的剖面图。第三图表示纯度偏差的测定条件之模式图。
地址 日本
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