发明名称 Semiconductor device and method for manufacturing the same
摘要 본 발명은 전계 효과 트랜지스터를 포함하는 반도체 소자에 관한 것으로, 보다 구체적으로, 그의 상부에 활성 패턴을 포함하는 기판; 및 상기 활성 패턴을 가로지르는 게이트 구조체를 포함한다. 이때, 상기 게이트 구조체는: 게이트 전극; 상기 게이트 전극 상의, 제1 유전 상수를 갖는 캐핑 패턴; 상기 게이트 전극의 양 측벽들 상의 한 쌍의 스페이서들; 및 상기 캐핑 패턴과 상기 스페이서들 사이에 개재된, 제2 유전 상수를 갖는 저유전 물질을 포함하고, 상기 제2 유전 상수는 1과 같거나 크고 상기 제1 유전 상수보다 작다.
申请公布号 KR20160148795(A) 申请公布日期 2016.12.27
申请号 KR20150085210 申请日期 2015.06.16
申请人 삼성전자주식회사 发明人 이후용;김완돈;송재열;현상진
分类号 H01L29/78;H01L29/49;H01L29/66 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
主权项
地址