| 摘要 |
패터닝 유기 마스크 아래 배치된 에칭층에서 에칭된 피쳐들을 형성하는데 있어서 초저주파 선폭 조도 (LWR) 를 감소시키기 위한 방법이 제공된다. 패터닝 유기 마스크는 패터닝 유기 마스크의 초저주파 선폭 조도를 감소시키기 위해 처리되는데, 이 처리는, H를 포함하는 처리 가스를 흐르게 하는 단계로서, 처리 가스는 플로우 레이트를 갖고 H는 처리 가스의 플로우 레이트의 적어도 50% 를 갖는, 상기 처리 가스를 흐르게 하는 단계, 처리 가스로부터 플라즈마를 형성하는 단계, 및 처리 가스의 흐름을 중지시키는 단계를 포함한다. 감소된 초저주파 LWR 를 갖는, 처리된 패터닝 유기 마스크를 통해 에칭층이 에칭된다. |
