发明名称 控制光学装置之写入功率之方法及装置
摘要 本发明提出一种控制写入功率的方法和装置,以执行连续式最佳功率控制(Optimum Power Control,OPC),其中在写入射频(Radio Frequency,RF)信号与监控写入功率之动态范围中的缺点系以轫体(或软体)来补偿,而此缺点是难以硬体来补偿,且其中得到一个具有定线性特性的正规化写入射频信号,其系当光学装置在写入模式下,用来控制雷射二极体的写入功率。因此,即使在光学装置的写入环境改变下,也能够提供最佳写入特性。本发明所述之方法包括以下步骤:使用预定条件值,来检测出第一正规化写入信号,其对应写入功率具有线性特性,此预定条件值乃是考虑写入射频(RF)信号和监控写入功率的动态范围,且在此动态范围中的缺点没有以光学装置的硬体补偿而设定的,以将这个第一正规化写入信号设定为参考信号;当写入资料到光学媒体的使用者区域时,使用此预定条件值,来检测出第二正规化写入信号,其对应写入功率具有线性特性;以及依照决定第二正规化写入信号是否近似于第一正规化写入信号的结果,来控制光源的写入功率。
申请公布号 TW511074 申请公布日期 2002.11.21
申请号 TW090120466 申请日期 2001.08.21
申请人 三星电子股份有限公司 发明人 金周晔
分类号 G11B20/00 主分类号 G11B20/00
代理机构 代理人 詹铭文 台北巿罗斯福路二段一○○号七楼之一;萧锡清 台北市罗斯福路二段一○○号七楼之一
主权项 1.一种控制光源之最佳写入功率之方法,此光源系在一光学装置中发出光束以写入资料到一光学媒体,该方法包括下列步骤:当写入随机资料至该光学媒体的一功率校正区内的一测试区域时,使用复数个预定条件値,来检测出一第一正规化写入信号,其对应写入功率具有一线性特性,该些预定条件値乃是考虑一写入射频信号和监控写入功率的动态范围,且在动态范围中的缺点没有以该光学装置的硬体来补偿而设定的,以及将该第一正规化写入信号设定为一参考信号;当写入资料到该光学媒体的一使用者区域时,使用该些预定条件値,来检测出相对应于写入功率具一线性特性的一第二正规化写入信号;以及依据所决定之该第二正规化写入信号是否近似于该第一正规化写入信号的结果,来控制该光源的写入功率。2.如申请专利范围第1项所述控制光源之最佳写入功率之方法,其中该些预定条件値,包括:一斜率(增益)与一偏差値,其系用来控制一信号之位准,该信号系由相对应于该光学媒体之反射光量之信号,做取样保持后而获得;以及一斜率(增益)与一偏差値,其系用来控制一信号之位准,该信号系由监督该光学媒体之该光源之放射光量所获得的信号,做取样保持后而获得。3.如申请专利范围第1项所述控制光源之最佳写入功率之方法,其中该第一及第二正规化信号是由下列公式计算而得;其中WRF_Norm是该第一或第二正规化写入信号,WRF-_SH是相应于该光学媒体之反射光量的一取样保持写入信号;N和J个别代表一斜率(增益)与一偏差値,其系用来控制相对应于该光学媒体之反射光量的该取样保持信号的位准,J是一个整数,MPDO_SH代表一信号,该信号系由监督该光源之放射光量所获得的信号,做取样保持后而获得,M和I个别代表一斜率(增益)与一偏差値,其系用来控制该信号之位准,该信号系由监督该光源之放射光量所获得的信号,做取样保持后而获得,I是一个整数。4.如申请专利范围第1项所述控制光源之最佳写入功率之方法,其中控制该光源之写入功率的该步骤包括:当已知该第二正规化写入信号并不近似于该参考信号时,该光源的写入功率系根据该第二正规化写入信号与该参考信号的差値来控制。5.一种控制光源之最佳写入功率之装置,此光源系在光学装置中发出光束以写入资料到一光学媒体,该装置包括:一第一取样保持单元,用以对相对应于该光学媒体之反射光量之信号做取样与锁定;一第二取样保持单元,用以对相对应于监控该光源之放射光量之信号做取样与锁定;以及一控制器,用以执行复数个预定条件値的运算,该些预定条件値考虑了一写入射频信号和监控写入功率的动态范围,且动态范围之缺点并没有在该光学装置的硬体中做补偿,该控制器也从该第一和第二取样保持单元的信号输出中,检测出相对于该光源的写入功率之具有一线性特性的一正规化写入信号,进而在一写入模式下,控制写入功率。6.如申请专利范围第5项所述控制光源之最佳写入功率之装置,其中该些条件値,包括:一斜率(增益)与一偏差値,其系用以控制该第一取样保持单元之输出信号的位准;以及一斜率(增益)与一偏差値,其系用以控制该第二取样保持单元之输出信号的位准。7.如申请专利范围第5项所述控制光源之最佳写入功率之装置,其中该控制器是以下列公式对该第一取样保持单元的输出信号WRF_SH,及该第二取样保持单元的输出信号MPDO_SH做运算处理,检测出该正规化写入信号WRF_Norm:其中N和J个别代表一斜率(增益)与一偏差値,其用以控制该第一取样保持单元输出信号的位准,J是一个整数;M和I个别代表一斜率(增益)与一偏差値,其用以控制该第二取样保持单元输出信号的位准,I是一个整数。8.如申请专利范围第5项所述控制光源之最佳写入功率之装置,其中该控制器在写入随机资料到该光学媒体上的一功率校正区的一测试区时,使用该些预定条件値,检测出一第一正规化写入信号,将该第一正规化写入信号设定成一参考信号,以及根据比较一第二正规化写入信号是否近似于该参考信号的结果,来控制该光源的写入功率,其中该第二正规化写入信号是当写入资料到该光学媒体上的一使用者区域时,使用该些预定条件値所检测而得的。图式简单说明:第1A图和第1B图是当资料写入到光碟上的凹陷区时,入射写入脉冲和反射写入脉冲的相互关系图;第2图是在未使用本发明之方法和装置时,对应于反射光量的取样保持射频(RF)信号与写入功率的相互关系图;第3图是根据本发明之一种包含控制写入功率装置的光学装置的功能方块图;第4图是根据本发明之一种方法的流程图;第5图是根据本发明之一种相对应于反射光量的取样保持信号,所得到的写入功率的相互关系图;第6A图是当使用传统的连续式最佳功率控制法(OPC),在光学装置因平台机构产生歪斜时,第3图中各主要成员的输出波形实例;第6B图是当使用传统的连续式最佳功率法(OPC)且应用本发明所陈述之方法及装置,在光学装置因平台机构产生歪斜时,第3图中各主要成员的输出波形实例;第7A图是当光学装置因为平台机构而产生歪斜时,应用传统的连续式最佳功率控制法,所产生的射频对称(RF Symmetry)的图例;以及第7B图是当光学装置因为平台机构产生歪斜时,应用传统的连续式最佳功率控制法,加上本发明所陈述之方法及装置时,所产生的射频对称(RF Symmetry)的图例。
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