| 主权项 |
1.一种乾式蚀刻用装置,适用于一晶圆,包括:一舱室本体部,具有一边缘部、一边缘凹部及一底部,且上述底部具有一第一开口部,上述第一开口部系用以排出一既定电浆气体;一夹盘部,设置于上述舱室本体部之底部,系用以夹持住上述晶圆;一调节板支承物,设置于上述舱室本体部之边缘凹部;一第一调节板,设置于上述调节板支承物之表面;一调节板间隔物,设置于上述第一调节板之表面;一第二调节板,设置于上述调节板间隔物之表面,且上述第二调节板具有一凹部;一盘状物,设置于上述第二调节板之凹部,且上述盘状物本身并未开设有开孔;以及一上盖部,具有一第二开口部,上述第二开口部系用以通入上述既定电浆气体,且上述上盖部系设置于上述舱室本体部之边缘部;其中,上述第一调节板及第二调节板皆开设有复数开孔,且上述调节板间隔物及调节板支承物皆为一空心环状物。2.如申请专利范围第1项所述之乾式蚀刻用装置,其中上述既定电浆气体为氧电浆气体。3.如申请专利范围第1项所述之乾式蚀刻用装置,其中上述盘状物系由蓝宝石所构成。图式简单说明:第1图系表示习知的乾式蚀刻用装置之示意剖面图。第2图系表示第1图中之盘状物的正面图。第3图系表示本发明的乾式蚀刻用装置之立体图。第4图系表示第3图中之盘状物的正面图。第5图系表示本发明的乾式蚀刻用装置之示意剖面图。 |
