| 主权项 |
1.一种投影片曝光设施,包括多个平行设置之物镜(O1至O5),其特征在于,物镜(O1至O5)放大;且该物镜以1:1.1,最好是1:1.5,的比例放大。2.根据申请专利范围第1项之设施,其中物镜为扫瞄型物镜。3.根据申请专利范围第2项之设施,其中物镜(O1至O5)垂直于扫瞄方向交错排成两排或两排以上,且扫瞄时各像场无缝连接或重叠。4.根据申请专利范围第3项之设施,其中像场(S1至S5)之形状设计使得扫瞄时每像素重叠部份之总光量亦相同。5.根据申请专利范围第1项之设施,其中每一物镜皆有一自己的物遮蔽罩(调制盘)。6.根据申请专利范围第1至5项中至少一项之设施,其中每一物镜(O1至O5)皆有一自己的曝光装置(B1至B5)。7.根据申请专利范围第6项之设施,其中每一曝光装置(B1至B5)皆有一分离的光源。8.根据申请专利范围第1至5项中至少一项之设施,其中每一物镜(O1至O5)的像场(S1至S5)皆为多边形。9.根据申请专利范围第8项之设施,其中每一物镜(O41至O45)之一或多个镜框皆切割成多边形。10.根据申请专利范围第8项之设施,其中每一物镜(O41至O45)之一或多个透镜皆切割成多边形。11.根据申请专利范围第1至5项中至少一项之设施,其中物镜(O1至O5)是纯透镜物镜。12.根据申请专利范围第1至5项中至少一项之设施,其中物镜(O51至O54)是具中间影像之物镜。13.一种大面积图样微石版印刷曝光之扫瞄程序,其使用多个物镜(O1至O5),该物镜有效地使一扫瞄行成像,其特征在于,图样(R1至R5)被以1:1.1,最好是1:1.5,的比例放大成像。14.根据申请专利范围第13项之程序,其中图样为平屏幕图样。图式简单说明:图1系具一放大镜阵列用于FPD制造之投影曝光设施侧视图。图2系具条状遮蔽罩之调制盘或调制盘阵列示意图。图3系晶圆侧扫描缝隙像场与物镜之示意图。图4系角状切割截面之物镜配置示意图。图5系具一放大镜阵列及连续遮蔽罩枝头影曝光设施侧视图。图6系图5晶圆侧配置示意图。图7系一放大投影物镜之透镜截面图。 |
