膜形成装置和膜形成方法和清洁方法

摘要

本发明的目的在于提供一种能够形成高密度和高纯度EL层的膜形成装置和清洁方法。本发明为藉由基底的加热装置加热基底10、藉由连接到膜形成室的减压装置(如涡轮分子泵、乾泵、低温抽气泵等的真空泵)将膜形成室的压力减小到5×10^-3Pa(0，665Pa)或以下，较佳的，减小到1×10^-3Pa(0，133Pa)或以下，并藉由从沉积源沉积有机化合物材料进行膜形成，形成高密度EL层。在膜形成室中，藉由电装进行沉积掩模的清洁。