发明名称 薄膜电晶体
摘要 本发明提供一种可抑制特性参差之薄膜电晶体。其系具有:隔着SiO2膜所构成之基底绝缘膜3而设于玻璃基板2上之Si所形成之半导体层4;设于半导体层4中之两侧之源极领域8与汲极领域9;于半导体层4中之源极领域8与汲极领域9之间之通道领域10;隔着SiO2膜所构成之闸极绝缘膜6而设于通道领域10上之闸极电极7,其特征为:至少由闸极电极7所覆盖之通道领域10之通道宽度方向WD的端部5的斜面角系在大约60度以上。
申请公布号 TW200304705 申请公布日期 2003.10.01
申请号 TW092100782 申请日期 2003.01.15
申请人 液晶先端技术开发中心股份有限公司 发明人 是成贵弘
分类号 H01L29/786 主分类号 H01L29/786
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 日本