阵列式单横模面射型雷射元件及其制造方法

摘要

本发明系一种具有复数个发光窗口之单横模面射型雷射元件及其制造方法。该方法系对分散式布拉格反射镜层进行掺质扩散来形成掺杂区产生杂质诱发混乱(impurity induced disordering)效应，以抑制高阶横向膜。且此单横模面射型雷射元件之复数个发光窗口更可延伸至二维阵列结构，以制作出高输出功率、低电阻又可以增加操作电流范围的单横模面射型雷射元件。