用于执行光罩图案之传送调整以改善处理曝光宽容度之方法

摘要

本发明提供一种产生一用于光微影制程中之光罩的方法。该方法包括以下步骤：判定一具有复数个待成像之特征的目标光罩图案及一待用于成像该光罩之照明系统；识别该目标图案内之一临界间距且最佳化用于成像该临界间距的该照明系统之照明设置；识别该目标图案内之一禁用间距；及修正具有一等于或大体上等于该禁用间距之间距的该等特征之透射率，使得等于或大体上等于该禁用间距的该等特征之曝光宽容度得以增加。