发明名称 镀膜源、真空镀膜装置、有机EL面板的制造方法及有机EL面板FILM FORMATION SOURCE, VACUUM FILM FORMATION APPARATUS, ORGANIC EL PANEL AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
摘要 本发明可实现获得良好的图案形成精度或者膜厚均匀性的镀膜。一种在基板(1)的被镀膜面(1a)上形成薄膜的真空镀膜装置的镀膜源(10),具有:材料容纳部(11),其容纳镀膜材料;加热装置(12),其对材料容纳部(11)内的镀膜材料进行加热;以及镀膜流控制部(13),其设置在材料容纳部(11)的喷出口,控制镀膜流的方向;镀膜流控制部(13)使镀膜流在被镀膜面(1a)相对镀膜源(10)的移动方向(X方向)上具有强指向性。
申请公布号 TW200541395 申请公布日期 2005.12.16
申请号 TW094118058 申请日期 2005.06.01
申请人 东北先锋股份有限公司 发明人 增田大辅;安彦浩志;梅津茂裕
分类号 H05B33/10 主分类号 H05B33/10
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本