METHODS AND APPARATUS TO PREDICT ETCH RATE UNIFORMITY FOR QUALIFICATION OF A PLASMA CHAMBER

摘要

기판들의 기판 프로세싱 동안 프로세싱 챔버의 건전성 상태를 검정하기 위해 에칭 레이트 균일성을 예측하는 방법이 제공된다. 방법은 레시피를 실행하는 것과 제 1 세트의 센서들로부터 프로세싱 데이터를 수신하는 것을 포함한다. 방법은 서브시스템 건전성 확인 예측 모델을 사용하여 프로세싱 데이터를 분석하여 계산된 데이터를 결정하는 것을 더 포함하며, 계산된 데이터는 에칭 레이트 데이터와 균일성 데이터 중 적어도 하나를 포함한다. 서브시스템 건전성 확인 예측 모델은 일 세트의 비-필름 기판들의 유사한 프로세싱 동안 수집된 프로세싱 데이터와 일 세트의 필름 기판들로부터의 측정 데이터를 상관시킴으로써 구성된다. 방법은 또한 서브시스템 건전성 확인 예측 모델에 의해 정의된 일 세트의 제어 한계들에 대한 계산된 데이터의 비교를 수행하는 것을 포함한다. 방법은 또한 계산된 데이터가 상기 일 세트의 제어 한계들 밖에 있는 경우 경고를 발생하는 것을 더 포함한다.