| 摘要 |
<p>: La présente invention concerne de nouvelles compositions cosmétiques notamment des laques et lotions de mises en plis contenant en tant que résine au moins un copolymère correspondant à la formule générale I suivante : (I) (Ia) (Ib) (Ic) (Id) dans laquelle : m, n, s et t sont 1 ou 2, R, R' et R" représentent un atome d'hydrogène ou un radical méthyle, Z représente un radical divalent pris dans le groupe constitué par: -CH2-, -CH2-O-CH2- et -CH2-O-(CH2)2-, R1 représente un radical alkyle, linéaire ou ramifié, saturé ou insaturé, ayant de 2 à 21 atomes de carbone; lorsque s = 1, Cyc représente un radical mono ou poly-cyclique, saturé ou insaturé, choisi parmi: (i) un radical de formule : (ii) un radical de formule : dans laquelle : R2 représente un atome d'hydrogène ou un radical méthyle, et p est 1 ou 2, (iii) un radical de formule : et (iv) un radical de formule : dans laquelle : R3 représente un atome d'hydrogène, un radical méthyl, éthyl, tert-butyl, éthoxy, butoxy ou dodécoxy et R4 représente un atome d'hydrogène, un radical alkyle de 1 à 4 atomes de carbone ou un radical alkoxy de 1 à 4 atomes de carbone, lorsque s = 2, Cyc représente un radical de formule : dans laquelle: R'3 et R'4 ont les mêmes significations que celles données pour R3 et R4, v représentant de 10 à 91 % en poids, w représentant de 3 à 20 % en poids, x représentant de 4 à 60 % en poids, et y représentant de 0 à 40 % en poids, v + w + x + y étant égal à 100 %.</p> |
