| 主权项 |
1.一种用以制备下式2- 恶 化合物之方法,其中,R代表氢或卤素;此法包括将下式2- 恶 -4-氧化物化合物(式中,R之定义同前),在有效催化量之选自硫化铂、硫化钯、硫化铑及硫化钌中之至少一种触媒之存在下,利用氢予以还原之步骤者。2.如申请专利范围第1.项所述之方法,其中之2- 恶-4-氧化物系被放置于另外含有硷金属氢氧化物的溶液内进行反应者。3.如申请专利范围第2.项所述之方法,其中之溶液为一种水溶液者。4.如申请专利范围第1.项所述之方法,其中之R系选自氢、氯或氟者。5.如申请专利范围第1.项所述之方法,其中之起始原料为6-氯-2-羟基 恶 -4-氧化物者。6.如申请专利范围第1.项所述之方法,其中之还原反应系在大约10至大约90℃之间进行者。7.如申请专利范围第6.项所述之方法,其中之还原反应系在大约20至大约75℃之间进行者。8.如申请专利范围第1.项所述之方法,其中之还原反应系在大约3至大约100大气压之间的压力下进行者。9.如申请专利范围第8.项所述之方法,其中之还原反应系在大约6至大约60大气压之间的压力下进行者。10.如申请专利范围第1.项所述之方法,其中之触媒为硫化铂者。11.一种由6-氯-2-羟基 恶-4-氧化物制造6-氯-2-羟基 恶菻之方法,而该方法系令6-氯-2-羟基 恶-4-氧化物与氢,在(1)有效催化量之硫化铂、及(2)硷金属氢氧化之水溶液的存在下,于大约10至大约90℃的温度,以及于大约3至大约100大氧压之压力下相反应者。12.如申请专利范围第11.项所述之方法,其中之反应系在大约20至大约75℃之温度及大约6至大约60大气压之压力下进行者。13.如申请专利范围第11.项所述之方法,其中之反应系在大约60之温度及大约8至大约15大气压之压力下进行者。 |
