| 发明名称 |
METHOD AND EQUIPMENT FOR PLASMA TREATMENT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0280563(A) |
申请公布日期 |
1990.03.20 |
| 申请号 |
JP19880228577 |
申请日期 |
1988.09.14 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
KOBAYASHI HIDE;SHIMAMURA HIDEAKI;SAKATA MASAO;FUJITA MASAHIRO;KAMEI TSUNEAKI |
| 分类号 |
C23C14/34;C23C16/50;C23F4/00;H01L21/203;H01L21/302;H01L21/3065 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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