发明名称 火花浸蚀机器
摘要 本发明提供一种火花浸蚀机器,包括一走丝电极和一测定走丝电极偏转度的光学测量装置。测量装置包括一产生均匀平行光束的光源(10)。测定来自光源且为走丝电极(9)所遮住的光束的传感器组合件(1,11)系予设计为吸收依走丝电极(9)相对位置之一对一对应关系而定的光量。连接在传感器组合件下游的监定电路提供表示走丝电极偏离其直线位直的偏转度的电信号。用此信号可校正走丝电极与工件导向头的相对位置,从而可避免因走丝电极偏转而引起的加工误差。
申请公布号 TW132562 申请公布日期 1990.04.11
申请号 TW077107023 申请日期 1988.10.12
申请人 艾吉罗森.皮.雷卡诺电子工业公司 发明人 艾瓦诺.贝崔米博士;亚瑟.伯柔德斯博士;彼得.威里
分类号 G05B24/00 主分类号 G05B24/00
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种火花浸蚀机器,包含有一走丝电极")和一测定走丝电极偏转湲用的光学测量装置,该测量装置包括一光源"句、一传感器组合件(1,11)和一滥定电路“",传感器组合件用以测定来自光源且为走丝电极")所遮住的光束一",镶定电路(1刀则连接在传感器组合件的下游,该火花漫蚀机特征在于,传感器组合件U,11)系设计为吸收与走丝电极汐)的相对位置具有一对一对应关系的光量。2.根据申请专利范围第1项所述的火花浸蚀机,其中该该传感器组合件(1)的有效的光吸收表面具有严格单调变化的几何形状。3.根据申请专利范围第2项所述的火花浸蚀机,其中该传感器组合件(1)的光吸收表面呈一角形。4.根据申请专利范围第1,2或3项所述的火花浸蚀机,其中该传感器组合元件(1)包括多个传感器元件(2"11:25,31;3a,;~。5.根据申请专利范围第3项所述的火花浸蚀机,其中该传感器元件(2"2站输出信号系用光学方法相加以形成鳃信号。6.根据申请专利范围第4项所述的火花浸蚀机,其中各传感器元件(2,11;25,33;38,3~包括一光电变换器元件(11)且监定电路(14-16)包括加法电路(14,1勺,用于使光电铿换器(11)的输出信号产生一指示走丝电极汐)相对位置的信号。7.根据申请专利范围第1项所述的火花浸蚀机,其中光源(10)发出平行均匀的光束○",并将走丝电极的阴影伶)投射到传感器组合件(I)的有效光吸收表面上。8.根据申请专利范围第1项所述的火花浸蚀机,其中设置有多个尺寸小干走丝电极汐)阴影伶)宽度的光电传感器元件盘")"并且光电传感器元件(2,11)之目2置方式为,依传感器组合件(1)一部份在测量方向(X)之轨迹而定,若干传感器元件(2,11)系与垂直于测量方向(X)并在测量方向有一给定长度之上述部份相关联。9.根铍申请专利范圉第8项所述的火花浸蚀戡,其中该传感器组合件(1)在其整个衷面的每单位积上包括有大致为f匣定数目的传感器元件(2,11),且与测量方内(X)垂直的传感器组合件(1]的宽度取决于测量方向(X)之轨迹o10.根据申请专利范围第8项所述的火花浸蚀机,其中每单位面积上传感器元件(2,11)的檄目取泱于淇在测量方向(X)上的轨迹。11.根据申请专利范围第8,9或10项所述的火花浸蚀机,其中该传感器组合件U)包括两组(6,7)传感器元件(2,11>其配置方式为,垂直于测量方向(X)并在第一组(6)之测量方向具有给定长度之一部份包含若干与该部份在测量方向(X)之轨迹具有一定依赖关系之感测器元件,以及垂直于测量方向(X)并在第二组(7)之测量方向具有给定长度之一部份包含若干与上述一定依赖关系比较与该部份在测量方向(X)之轨迹具有相反依转关系之传感器元件(2,11)。12.根据申请专利范围第11项所述的火花浸蚀机,其中令组(6,7)所具有的传感器元件(2,11)呈三角形区域,且两三角形成区域彼此成相反排列。13.根据申请专利范围第8,9或10项所述的火花浸蚀机,其中各传感器元件包括光填纤维(2)和光电变换器元件(11),光填纤维(2)面对着走丝电极(9)的各端部由填向元件(a)予以固定,将所述光导纤维(2)固定于大致为彼此平行的位置,且光电铿换元件(1)系连接至光导纤维(2)的另一端。14.根据申请专利范围第13项所述的火花浸蚀机,其中该光电变换器元件是光电二极管(11)。15.根据申请专利范围第12项所述的火花浸蚀机,其中该监定电路0"包括加法电路(1衍包括加淙电路(14,1勺和一减法电路"~,各加法电路"4,1勺将一组(6,7)的相应各个传感器元件(2,11)的各别输出信号相加,减法电路(1~则产生表示走丝电极~)相对位置并表示加法电路(14,15)请输出信号差的电信号。16.根据申请专利范围第1项所述的火花浸蚀机,其中使一部分光束(3"传到光电变换器元件的光学装置(2,25"33;38,3~系设置在光电变换器元件(11)的光路上游,且该部分光束具有严格单调变化的几何形状。17.根据申请专利范围第16项所述的火花浸蚀机,其中该光学装置是一束光导纤维(2)。18.根据申请专利范围第16项所述的火花浸蚀机,其中该光学装置是一束光导纤维。19.根据申请专利范围第16项所述的火花浸蚀机,其中该光学装置是个具三角形遮光板"~的光学透镜泣5)。20.根据申请专利范围第16,18或19项所述的火花浸蚀机,其中该光学装置是个柱面透镜"3,2勺,其折射率大体上根据光轴"勾上的半径成抛物线形式变化。21.根据申请专利范围第20项所述的火花浸蚀机,其中透镜泣公具有三角形横截面。22.根据申请专利范围第20项所述的火花浸蚀机,其中透撬的入口平面泣~为一-角形遮光板所掩蔽。23.根据申请专利范围第20项所述的火花浸蚀机,其中柱面透镜的入口平面"~至少为一-角形波长滤光镜所掩蔽,其余部分则为一遮光板~句所遮暗。24.根据申请专利范围第21项所述的火花浸蚀机,其中光瓒体(3山系耦合到透镜的焦点泣勾上,且该焦点故于透镜的平面出口表面""上。25.根据申请专利范围第20项所述的火花浸蚀机,其中柱面透镜"5)的入口平面"~为两个三角形总光镜(38,39)所掩蔽,这些拨光镜(;8,3~让不同波长的光通过,透镜泠5)入口平面的其余部分为一遮光板~山所掩蔽.光源(1~发出至少两个由滤光镜"8,3~所确定的波长的光,且在透镜出口与光电变换器元件“1)之间设置有一分光器"勺,以便将光分成个则波长的光,并分别将各波长的光传送到有关的变换器元件(11)。26.根据申请专利范围第25项所述的火花浸蚀机,其中设有装置以将因色差引起的校正至至少该二波长之一。27.根据申请专利范围第1或16项所述的火花浸蚀机,其中设有一点式光源(1)和一间接到该光源且折射率按抛物线变化的枝面透镜(14),以产生平行均匀光束一刀。
地址 瑞士
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