| 发明名称 |
REMOVING METHOD OF RESIST MASK |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR910009319(B1) |
申请公布日期 |
1991.11.09 |
| 申请号 |
KR19880009223 |
申请日期 |
1988.07.22 |
| 申请人 |
FUJITSU CO. LTD. |
发明人 |
HUJIMURA SJO;SINAKAWA GEISKE;ABE NAOMITZI |
| 分类号 |
H01L21/302;G03F7/42;H01L21/027;H01L21/30;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/302 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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