| 主权项 |
1.一种产制具有式CX3CH2F之氟化乙烷之方法,其中之X表示Cl或F,此方法包含:(i)将一主要由硷金属氟化物MF所构成之固体组成物(其中之M为原子序于19至55间之一硷金属)连续地与(ii)一卤乙烷CX3CH 2Cl之气体流于一约150℃至450℃之有效温度范围中接触,且其接触时间须足以产生(a)一含CX3CH2F之气态产物流(其中之X为Cl或F)及(b)一至少已部份消耗之含硷金属氯化物之硷金属氟化物组成物,及(iii)由硷金属组成物中将气态产物流分离出来2.如申请专利范围第1项之方法,其中之硷金属氟化物是安置于一固体支持物上。3.如申请专利范围第2项之方法,其中支持物为一微粒子碳。4.如申请专利范围第1项之方法,其中之硷金属氟化物为氟化钾,且其温度范围于约250℃至400℃间。5.如申请专利范围第1项之方法,其中之硷金属氟化物为氟化铯,且其温度范围于约200℃至350℃间。6.如申请专利范围第1项之方法,其中之硷金属氟化物是由氟化氢与相对应之硷金属氯化物反应而得的。7.如申请专利范围第1项之方法,其中之至少部份消耗之硷金属氟化物组成物系藉着有效温度范围内受气态氟化氢之处理而加以环原,其中该有效温度范围为比该硷金属氟化物之相对应硷金属二氟化物的熔点高至少约100℃。8.如申请专利范围第7项之方法,其中之氟化氢同时与所述之固体组成物及CX2CH2Cl化合物接触。9.如申请专利范围第1项之方法,其中之所述卤乙烷为CF2CH2Cl且该气态产物流含有CF3CH2F。10.如申请专利范围第1项之方法,其中所述卤乙烷为CClF2CH2Cl且该气态产物流含有CClF2CH2F。11.如申请专利范围第1项之方法,其中之所述卤乙烷为CCl2FCH2Cl且该气态产物流含有CCl2FCH2F。12.如申请专利范围第1项之方法,其中之所述卤乙烷为 |
